• چکیده (6)
• فهرست جدول‌ها (10)
• فهرست تصویرها (11)
• فصل1 : مقدمه (18)
• فصل2 لیتوگرافی (20)
• فصل2 لیتوگرافی (20)
• فصل2 لیتوگرافی (20)
  • 2-1 لیتوگرافی نوری (20)
    • 2-1-1 آماده سازی زیرلایه (20)
    • 2-1-2 لایه نشانی فتورزیست (21)
    • 2-1-3 پخت اولیه (24)
    • 2-1-4 هم تراز کردن و تابش (25)
    • 2-1-5 پخت پس از تابش (28)
    • 2-1-6 آشکارسازی (29)
    • 2-1-7 پخت نهایی (29)
    • 2-1-8 اندازه‌گیری و بازرسی کردن (30)
    • 2-1-9 منتقل کردن الگو (30)
    • 2-1-10 زدایش کلی فتورزیست (31)
  • 2-2 لیتوگرافی بیم الکترونی (32)
  • 2-3 لیتوگرافی پروب روبشی (34)
    • 2-3-1 اساس کار STM (37)
    • 2-3-2 اساس کار AFM (39)
    • 2-3-3 اساس کار SNOM (40)
    • 2-3-4 لیتوگرافی پروب روبشی حرارتی و حرارتی- شیمیایی (41)
      • 2-3-4-1 الگودهی حلقه بسته با امکان کنترل عمق (45)
    • 2-3-5 لیتوگرافی پروب روبشی با بایاس (46)
    • 2-3-6 لیتوگرافی پروب روبشی اکسایشی (46)
    • 2-3-7 لیتوگرافی پروب روبشی مکانیکی (49)
    • 2-3-8 لیتوگرافی پروب روبشی Dip-pen (52)
• فصل3 بررسی انواع تیپ‌‌های مورد استفاده در لیتوگرافی پروب روبشی (54)
  • 3-1 تیپ‌ مورد استفاده در STM (54)
    • 3-1-1 ساخت تیپ‌ STM به روش زدایش الکتروشیمیایی (57)
  • 3-2 تیپ‌ مورد استفاده در AFM (60)
    • 3-2-1 روش ساخت تیپ و تیرک سیلیکونی (64)
    • 3-2-2 روش ساخت تیپ و تیرک سیلیکون نیترید (66)
    • 3-2-3 روش‌های دیگر ساخت تیپ AFM (68)
  • 3-3 تیپ‌های مورد استفاده در SNOM (70)
    • 3-3-1 روش ساخت تیپ روزنه دار با فیبر (71)
    • 3-3-2 روش ساخت نیپ و تیرک سیلیکونی روزنه دار (73)
    • 3-3-3 روش ساخت تیپ بدون روزنه (74)
• فصل4 ساخت انواع تیپ‌‌ها (76)
  • 4-1 ساخت تیپ تنگستنی (76)
    • 4-1-1 مدار کنترلی ساخته شده برای زدایش الکتروشیمیایی (80)
    • 4-1-2 ساختار پباده سازی شده (84)
    • 4-1-3 کنترل پروفایل تیپ ساخته شده (90)
    • 4-1-4 ساختار اپتیکی برای مشخصه یابی دستگاه موقعیت دهی نانومتری (90)
    • 4-1-5 ساختار پیاده‌سازی شده برای کنترل پروفایل تیپ (91)
  • 4-2 ساخت تیپ سیلیکونی (98)
  • 4-3 ساخت زیرساخت مناسب برای رشد CNT (106)
• فصل5 پیاده‌سازی سیستم نانولیتوگرافی (114)
  • 5-1 سیستم لیتوگرافی تونلی روبشی پیاده‌سازی شده (114)
    • 5-1-1 ساخت تیپ مورد نیاز (114)
    • 5-1-2 آماده‌سازی زیرلایه (115)
    • 5-1-3 ساختار پیاده‌سازی شده برای سیستم لیتوگرافی تونلی روبشی (116)
  • 5-2 سیستم لیتوگرافی نیروی اتمی پیاده‌سازی شده (119)
    • 5-2-1 نیروی برشی (119)
    • 5-2-2 مکانیزم تعیین فاصله بین تیپ و نمونه با استفاده از QTF (120)
    • 5-2-3 چسباندن تیپ به QTF (121)
    • 5-2-4 آماده سازی زیرلایه (124)
    • 5-2-5 ساختار پیاده‌سازی شده برای لیتوگرافی نیروی اتمی (125)
    • 5-2-6 انجام پروسه‌ی خراش دادن با سیستم پیاده‌ سازی شده (127)
• فصل6 نتیجه گیری و پیشنهادات برای پژوهش‌های آتی (130)
• مراجع (132)